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北方華創(Naura)官方宣布，ICP等離子刻蝕機第1000腔交付儀式近日在北京亦莊基地舉行，NAURA刻蝕機研發團隊見證了這一歷史性時刻。
北方華創表示，這不僅是公司發展征程中的重要里程碑，更是國產刻蝕機在歷經了20年自主創新后得到客戶廣泛認可的重要標志，未來會持續在等離子刻蝕ICP技術領域尋求更多突破。
北方華創科技集團股份有限公司成立于2001年，由北京七星華創電子股份有限公司、北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司戰略重組而成，是目前國內集成電路高端工藝裝備的先進企業。
北方華創成立后就開始組建團隊鉆研刻蝕技術，2004年第一臺設備成功起輝，2005年第一臺8英寸ICP刻蝕機在客戶端上線，并于2007年獲得國家科學技術進步二等獎。
目前，北方華創的刻蝕設備已經覆蓋集成電路、LED、先進封裝、功率半導體、MEMS微機電系統、化合物半導體、硅基微顯、分析儀器、功率器件、光通信器件等多個領域，硅刻蝕機已突破14nm技術，進入主流芯片代工廠。
其中，12英寸ICP刻蝕機在實現客戶端28nm國產化替代，并在14/7nm SADP/SAQP、先進存儲器、3D TSV等工藝應用中發揮著重要作用。
所謂等離子干法刻蝕，就是利用等離子體進行薄膜微細加工的技術，具有良好的各向異性、工藝可控性，廣泛應用于微電子產品制造領域。
在典型的干法刻蝕工藝過程中，一種或多種氣體原子或分子混合于反應腔室中，在外部能量作用下(如射頻、微波等)形成等離子體。
另外，很多人可能分不清光刻機、刻蝕機。最簡單地說，光刻機把電路圖投影到覆蓋有光刻膠的硅片上面，刻蝕機則是畫了電路圖的硅片上的多余電路圖腐蝕掉。
再打個比方，光刻機是照相機，刻蝕機就是顯影設備。
